သတ္တု rotary ပစ်မှတ်
ကုန်ပစ္စည်းအကြောင်းအရာ
သတ္တု Rotary ပစ်မှတ်
စပတာတင်ပစ်မှတ် (cathode) နှင့် anode အကြားတွင် ပုံသဏ္ဍန်သံလိုက်နှင့် လျှပ်စစ်စက်ကွင်းများကို အသုံးချသည်။ပြီးလျှင် မြင့်မားသော လေဟာနယ်ခန်းတွင် လိုအပ်သော inert gas (များသောအားဖြင့် Ar gas) ကို ဖြည့်ပါ။လျှပ်စစ်စက်ကွင်း၏ လုပ်ဆောင်ချက်အောက်တွင် Ar gas သည် အပြုသဘောဆောင်သော အိုင်းယွန်းများနှင့် အီလက်ထရွန်များအဖြစ်သို့ အိုင်ယွန်ဖြစ်လာသည်။အချို့သော အနုတ်လက္ခဏာ မြင့်မားသော ဗို့အားကို ပစ်မှတ်သို့ သက်ရောက်သည်၊ ပစ်မှတ်မှ ထုတ်လွှတ်သော အီလက်ထရွန်များသည် သံလိုက်စက်ကွင်းကြောင့် ထိခိုက်သည်၊ အလုပ်လုပ်သော ဓာတ်ငွေ့၏ အိုင်ယွန်ဖြစ်နိုင်ခြေ တိုးလာကာ၊ သိပ်သည်းဆမြင့်သော ပလာစမာသည် cathode အနီးတွင် ဖြစ်ပေါ်လာပြီး Ar ion များကို ထိခိုက်ပါသည်။ Lorentz အင်အားဖြင့်ထို့နောက် ပစ်မှတ်မျက်နှာပြင်ဆီသို့ အရှိန်မြှင့်ပျံသန်းကာ ပစ်မှတ်မျက်နှာပြင်ကို အရှိန်ပြင်းပြင်းဖြင့် ဗုံးကြဲကာ ပစ်မှတ်ပေါ်ရှိ ကွဲအက်နေသော အက်တမ်များသည် အရှိန်အဟုန်ဖြင့် ပြောင်းလဲခြင်း၏ နိယာမအတိုင်း၊ ပစ်မှတ်မျက်နှာပြင်မှ အလွှာဆီသို့ ပျံသန်းကာ မြင့်မားသော အရွေ့စွမ်းအင်ရုပ်ရှင်တစ်ခုအဖြစ် ထားရှိနိုင်ရန်။
ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၏ အသုံးချမှုနှုန်းကို ပိုမိုတိုးတက်စေရန်အတွက်၊ ပိုမိုမြင့်မားသောအသုံးပြုမှုထိရောက်မှုရှိသော rotating cathode ကို ဒီဇိုင်းထုတ်ထားပြီး၊ tubular ပစ်မှတ်ပစ္စည်းကို sputtering coating အတွက် အသုံးပြုပါသည်။sputtering ကိရိယာများ ပိုမိုကောင်းမွန်လာခြင်းသည် ပစ်မှတ်ကို ပြားချပ်ချပ်ပုံသဏ္ဍာန်မှ tubular ပုံသဏ္ဍာန်သို့ ပြောင်းလဲရန် လိုအပ်ပြီး အပြားလိုက်ပစ်မှတ်၏ အသုံးပြုမှုနည်းသော ပြဿနာကို ကြီးမားစွာဖြေရှင်းပေးသည့် tubular rotating ပစ်မှတ်၏ အသုံးချမှုနှုန်းသည် 70% အထိ မြင့်မားနိုင်ပါသည်။
| ထုတ်ကုန်အမည် | သတ္တု rotary ပစ်မှတ် |
| ပစ္စည်း | W၊ Mo၊ Ta၊ Ni၊ Ti၊ Zr၊ Cr၊ TiAl |
| စျေးရောင်းစျေးဝယ်အရွယ်အစား | ID-133/ OD-157x 3191mm ID-133/OD-157 X 3855mm ID-160/OD-180x1800mm ဖောက်သည်များ၏ တိကျသောလိုအပ်ချက်များနှင့်အညီ စီမံဆောင်ရွက်ပေးနိုင်သည်။ |
| MOQ | ၃ကျပ် |
| အထုပ် | သစ်သားအိတ် |
မှတ်ချက်- ကျွန်ုပ်တို့သည် အမျိုးမျိုးသော သတ္တုပစ်မှတ်များကို အဓိကထုတ်လုပ်သည်၊ အသေးစိတ်အတွက် ကျွန်ုပ်တို့ကို တိုင်ပင်ပါ။
လျှောက်လွှာ
Sputtering coating သည် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့အပေါ်ယံပိုင်းနည်းလမ်းအသစ်တစ်ခုဖြစ်သည်။evaporation coating method နဲ့ ယှဉ်ရင် သိသာတဲ့ အားသာချက်တွေ ရှိပါတယ်။
များစွာသောရှုထောင့်။သတ္တု sputtering ပစ်မှတ်များကို နယ်ပယ်များစွာတွင် အသုံးပြုခဲ့သည်။ပစ်မှတ်လှည့်ခြင်း၏အဓိကအသုံးချ။
■ဆိုလာဆဲလ်များ
■ဗိသုကာမှန်
■အော်တိုမှန်
■တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း
■မျက်နှာပြင်ပြား တီဗီ စသည်တို့
အော်ဒါအချက်အလက်
စုံစမ်းမေးမြန်းမှုများနှင့် အမိန့်စာများတွင် အောက်ပါအချက်အလက်များ ပါဝင်သင့်သည်-
☑ပစ်မှတ်သတ်မှတ်ချက် ID×OD×L (mm)။
☑ပမာဏ လိုအပ်ပါသည်။
☑နောက်ထပ် အထူးလိုအပ်ချက်များအတွက် ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။
