ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (Physical Vapor Deposition, PVD) နည်းပညာသည် ပစ္စည်းအရင်းအမြစ် (အစိုင်အခဲ သို့မဟုတ် အရည်) ၏မျက်နှာပြင်ကို ဓာတ်ငွေ့အက်တမ်များ သို့မဟုတ် မော်လီကျူးများအဖြစ်သို့ အငွေ့ပျံစေရန် သို့မဟုတ် တစ်စိတ်တစ်ပိုင်း အိုင်းယွန်းအဖြစ်သို့ အိုင်ယွန်းအဖြစ်သို့ ဖြတ်သန်းကာ ဖိအားနည်းသောဓာတ်ငွေ့ (သို့မဟုတ် ပလာစမာ) မှတဆင့် ဖြတ်သန်းသွားသည့် လေဟာနယ်အခြေအနေအောက်တွင် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာနည်းလမ်းများကို အသုံးပြုခြင်းကို ရည်ညွှန်းသည်။ လုပ်ငန်းစဉ်၊ အထူးလုပ်ဆောင်မှုဖြင့် ပါးလွှာသော ဖလင်တစ်ချပ်ကို အလွှာတစ်ခု၏ မျက်နှာပြင်တွင် အပ်နှံရန် နည်းပညာဖြစ်ပြီး၊ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ အခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်းမှာ အဓိက မျက်နှာပြင် ကုသရေးနည်းပညာများထဲမှ တစ်ခုဖြစ်သည်။ PVD (physical vapor deposition) အပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာကို အဓိကအားဖြင့် အမျိုးအစားသုံးမျိုးခွဲထားသည်- လေဟာနယ်အငွေ့ပျံခြင်းအပေါ်ယံပိုင်း၊ လေဟာနယ် sputtering coating နှင့် vacuum ion coating တို့ဖြစ်သည်။
ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များကို အပူငွေ့ပျံခြင်းနှင့် sputtering coating တွင် အဓိကအားဖြင့် အသုံးပြုပါသည်။ အခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်းတွင် အသုံးပြုသည့် ထုတ်ကုန်များတွင် တန်စတင်ကြိုးမျှင်များ၊ အဖြိုက်နက်လှေများ၊ မိုလီဘဒင်နမ်လှေများနှင့် အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်များကို ဖုံးအုပ်ရာတွင် အသုံးပြုသည့် ထုတ်ကုန်များမှာ cathode tungsten wire၊ copper crucible၊ tungsten crucible နှင့် molybdenum processing အစိတ်အပိုင်းများဖြစ်သည်။ တိုက်တေနီယမ်-အလူမီနီယမ် ပစ်မှတ်များ။
